微圖化光學膜是將光學薄膜結合微影製程技術，將光學膜應用在微小化、積體化產品上。利用離子輔助電子鎗蒸鍍設備，以低溫製程方法開發多層介電質膜之彩色陣列濾光模組，製作6µm厚正光阻，在有效尺寸約100µm×35mm區域內，鍍上約3µm厚之Ta2O5/SiO2 多層介電質膜，使彩色陣列濾光模組的六種色彩，隨機分佈在35mm×35mm 之基板上，相鄰顏色重疊區約5µm，經過來回六次之微影(Lift-off)與IAD低溫製程完成樣品。樣品且通過環境耐久性試驗，穿透光譜之波長漂移量小於5 nm 。 Download檔案下載 加入會員 分享 轉寄 聯絡我們 延伸閱讀 類鑽薄膜材料技術應用發展 類鑽薄膜材料技術與應用發展 材料微波處理技術及其應用 帶動工業技術巨大革新的電漿表面處理技術 電漿表面處理在生醫材料上之應用 熱門閱讀 半導體用抗反射層材料 半導體用光酸材料技術 次世代EUV帶來半導體光阻開發挑戰，日化學企業加速展開新材料佈局 「10分鐘內」超急速充電技術進展有成，全固態電池最受青睞 半導體用高解析光阻劑 相關廠商 台灣石原產業股份有限公司 金屬3D列印服務平台 山衛科技股份有限公司 高柏科技股份有限公司 喬越實業股份有限公司 照敏企業股份有限公司 台灣永光化學股份有限公司 桂鼎科技股份有限公司 台灣大金先端化學股份有限公司 大東樹脂化學股份有限公司 志宸科技有限公司