微圖化光學膜是將光學薄膜結合微影製程技術,將光學膜應用在微小化、積體化產品上。利用離子輔助電子鎗蒸鍍設備,以低溫製程方法開發多層介電質膜之彩色陣列濾光模組,製作6µm厚正光阻,在有效尺寸約100µm×35mm區域內,鍍上約3µm厚之Ta2O5/SiO2 多層介電質膜,使彩色陣列濾光模組的六種色彩,隨機分佈在35mm×35mm 之基板上,相鄰顏色重疊區約5µm,經過來回六次之微影(Lift-off)與IAD低溫製程完成樣品。樣品且通過環境耐久性試驗,穿透光譜之波長漂移量小於5 nm 。 Download檔案下載 加入會員 分享 轉寄 聯絡我們 延伸閱讀 《工業材料雜誌》1月刊 四十周年特刊,集結14項領域技術共同展現材料... 類鑽薄膜材料技術應用發展 類鑽薄膜材料技術與應用發展 材料微波處理技術及其應用 帶動工業技術巨大革新的電漿表面處理技術 熱門閱讀 從分子設計到原子級控制,半導體前段製程材料的挑戰與機會 由VLSI 2025 窺看半導體與AI運算技術的結合(上) 從2025日本智慧能源週看氫能技術的最新進展 ALD與ALE技術整合:次世代薄膜製程的挑戰 由VLSI 2025 窺看半導體與AI運算技術的結合(下) 相關廠商 台灣石原產業股份有限公司 金屬3D列印服務平台 山衛科技股份有限公司 高柏科技股份有限公司 喬越實業股份有限公司 照敏企業股份有限公司 台灣永光化學股份有限公司 桂鼎科技股份有限公司 台灣大金先端化學股份有限公司 大東樹脂化學股份有限公司 志宸科技有限公司