透明導電氧化物薄膜濕式成膜技術之新發展

 

刊登日期:2004/5/5
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目前透明導電氧化物薄膜的量產方法是以磁控濺鍍為代表的物理成膜技術為主。另一方面,濕式(化學)成膜技術提供一個不需要真空環境而且設備相對簡單、廉價又容易大面積成膜的機會;在研究者持續的努力下,近來也得到令人矚目的結果。本文將介紹透明導電氧化物薄膜濕式成膜技術最近的一些研發進展。

 

 


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