盲孔深鍍性優異的電鍍光阻

 

刊登日期:2015/5/12
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日本 HONNY化成公司所開發的丙烯酸電鍍光阻「HONNYRESIST」系列中「E-2000」正朝著 COF等 RtR 用途發展中。但是負型光阻在殘留曝光部有著難以保護孔洞內部與凹部的問題。該公司研發出的新產品「AP-1000」為正型陰離子電鍍光阻,從 Line/Space 7/7μ 的細緻圖樣,到 50/50μ 的厚膜皆可對應,且膜的厚度具有均一性及抗藥性,因而廣受好評。此外,負型光阻產品中,也針對低溫 UV-LED 曝光的訴求,向客戶提供 50℃的低溫曝光製程,可降低覆膜的可能性。

電鍍光阻雖然有著高速、RtR 對應等優點,但近年來因 COF 製品的減少、乾膜光阻(DFR)的崛起等而需求下降。但隨著新產品的推出,其立體造型、曲面的盲孔深鍍性,賦予了無孔洞及均一性等特性,因使用立體迴路設計與厚膜電阻的微小電子儀器系統(MEMS)等而再次獲得市場的好評。


資料來源: 化學工業日報/材料世界網編譯
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