一般非破壞性偵測表面與多層薄膜之低掠角入射X 光實驗方法被評估了。X光反射方法(X-Ray Reflectivity Technique)係研究表面均勻度與氧化現象、層厚度與密度、介面粗糙度與擴散作用等等。平面內(In-plane)繞射方法以低掠角入射X光偵測磊晶生成薄膜之平面內結晶結構，不對稱低掠角Bragg 繞射(Asymmetric-Bragg Diffraction)鑑定表面薄膜晶相及決定多晶薄膜縱深剖面之結構。本文將用典型例子說明這三種方法所能得到的資料。 Download檔案下載 加入會員 分享 轉寄 聯絡我們 延伸閱讀 薄膜量測標準 全球最高等級誘電率之PPS薄膜 尼龍膜加工製程與市場應用 雙軸延伸聚丙烯膜加工應用與市場概況 昭和電工致力追求高耐熱透明薄膜之高附加價值 熱門閱讀 由應用市場看Micro LED發展趨勢 氫能趨勢分析與儲能應用新思維 固態電池最新發展 商用感測器發展現況及未來趨勢(上) 鋰電池材料研發近況 相關廠商 金屬3D列印服務平台 名揚翻譯有限公司 華錦光電科技股份有限公司 銀品科技股份有限公司 桂鼎科技股份有限公司 里華科技股份有限公司 科邁斯科技股份有限公司 方全有限公司 台灣永光化學股份有限公司