一般非破壞性偵測表面與多層薄膜之低掠角入射X 光實驗方法被評估了。X光反射方法(X-Ray Reflectivity Technique)係研究表面均勻度與氧化現象、層厚度與密度、介面粗糙度與擴散作用等等。平面內(In-plane)繞射方法以低掠角入射X光偵測磊晶生成薄膜之平面內結晶結構，不對稱低掠角Bragg 繞射(Asymmetric-Bragg Diffraction)鑑定表面薄膜晶相及決定多晶薄膜縱深剖面之結構。本文將用典型例子說明這三種方法所能得到的資料。 Download檔案下載 加入會員 分享 轉寄 聯絡我們 延伸閱讀 可促進植物生長之塗佈型光波長轉換透明膜 適用於導電用途的鍍銀壓克力粒子 薄膜量測標準 全球最高等級誘電率之PPS薄膜 尼龍膜加工製程與市場應用 熱門閱讀 從 Battery Japan 2024看鋰電池與儲能產業發展 半導體產業廢硫酸純化再利用 加氫站加氫協定之研究與未來發展趨勢 歐盟新電池法生效推動循環經濟與永續發展 化合物半導體材料市場與應用導論 相關廠商 金屬3D列印服務平台 大東樹脂化學股份有限公司 台灣大金先端化學股份有限公司