一般非破壞性偵測表面與多層薄膜之低掠角入射X 光實驗方法被評估了。X光反射方法(X-Ray Reflectivity Technique)係研究表面均勻度與氧化現象、層厚度與密度、介面粗糙度與擴散作用等等。平面內(In-plane)繞射方法以低掠角入射X光偵測磊晶生成薄膜之平面內結晶結構，不對稱低掠角Bragg 繞射(Asymmetric-Bragg Diffraction)鑑定表面薄膜晶相及決定多晶薄膜縱深剖面之結構。本文將用典型例子說明這三種方法所能得到的資料。 Download檔案下載 加入會員 分享 轉寄 聯絡我們 延伸閱讀 薄膜量測標準 全球最高等級誘電率之PPS薄膜 尼龍膜加工製程與市場應用 雙軸延伸聚丙烯膜加工應用與市場概況 昭和電工致力追求高耐熱透明薄膜之高附加價值 熱門閱讀 NEPCON JAPAN 2019 日本東京特別報導系列一 NEPCON JAPAN 2019 日本東京特別報導系列三 NEPCON JAPAN 2019 日本東京特別報導系列二 從Finetech Japan 2018看OLED之進展 全球電動車市場發展動向與熱門議題 相關廠商 金屬3D列印服務平台 大東樹脂化學股份有限公司 名揚翻譯有限公司 里華科技股份有限公司 科邁斯科技股份有限公司