低掠角入射X光束分析表面與薄膜方法

 

刊登日期:1994/1/5
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一般非破壞性偵測表面與多層薄膜之低掠角入射X 光實驗方法被評估了。X光反射方法(X-Ray Reflectivity Technique)係研究表面均勻度與氧化現象、層厚度與密度、介面粗糙度與擴散作用等等。平面內(In-plane)繞射方法以低掠角入射X光偵測磊晶生成薄膜之平面內結晶結構,不對稱低掠角Bragg 繞射(Asymmetric-Bragg Diffraction)鑑定表面薄膜晶相及決定多晶薄膜縱深剖面之結構。本文將用典型例子說明這三種方法所能得到的資料。
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