用傳統粉末繞射儀決定薄膜的層厚度與密度：材料世界網

材料科學日新月異且極小化、輕便化，薄膜材料之應用於電子業就越來越廣泛。薄膜材料微結構分析變得越來越重要，厚度與密度乃其重要參數中的兩個，可以用X 光粉末繞射儀之鏡面反射來測定。國內各大專院校、研究機構、工業界之微結構分析實驗室中置有X 光粉末繞射儀者頗多，只要傳統X 光粉末繞射儀之θ 軸與2 θ 軸可以獨立旋轉，步進Step 小(如0.005°、0.01°)且可由微處理機(Microprocessor)記錄下來，就可以作薄膜之厚度與密度之量測。如需更精確數據，再找裝有施轉靶的高解析度X 光繞射儀來量測(國內極少)。這是譯本文以饗讀者的原因。

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