用傳統粉末繞射儀決定薄膜的層厚度與密度

 

刊登日期:1996/11/5
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材料科學日新月異且極小化、輕便化,薄膜材料之應用於電子業就越來越廣泛。薄膜材料微結構分析變得越來越重要,厚度與密度乃其重要參數中的兩個,可以用X 光粉末繞射儀之鏡面反射來測定。國內各大專院校、研究機構、工業界之微結構分析實驗室中置有X 光粉末繞射儀者頗多,只要傳統X 光粉末繞射儀之θ 軸與2 θ 軸可以獨立旋轉,步進Step 小(如0.005°、0.01°)且可由微處理機(Microprocessor)記錄下來,就可以作薄膜之厚度與密度之量測。如需更精確數據,再找裝有施轉靶的高解析度X 光繞射儀來量測(國內極少)。這是譯本文以饗讀者的原因。
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