日本曹達公司開發出全新液晶面板、光學零件使用之銦錫氧化物(ITO)成膜技術。該公司以獨家的Pyrosol法成功地在高深寬比(Aspect Ratio)之3D基板上均一成膜。
所謂Pyrosol法是在高溫加熱之輸送帶式成膜爐中，將含有構成元素的溶液以超音波形成霧狀後投入爐內並進行熱分解，於是便可在基板上形成均一的氧化物薄膜，可在大氣壓下以Inline方式進行連續生產。由於是在高溫下成膜，故安定性優異也能夠形成細微的表面構造。
在電子領域中，隨著製造技術細微化與高度化發展，該公司也著手進行可因應各種形狀基板之成膜技術。研究團隊從氣體氣流開始檢討加工條件，確立了可因應3D構造之新技術。
以線寬1微米、深5微米之基板為例，可製作出膜厚80~90奈米之均一薄膜。而在開發新技術的同時，該公司也開始在千葉工廠接受ITO成膜加工委託工作，今後也將以電子領域為中心開拓市場。
資料來源：化學工業日報/材料世界網編譯