山形大學有機電子研發中心（Innovation Center for Organic Electronics；INOEL）與帝人、TOSOH、FEBACS等公司共同開發了一項可撓式有機電致發光（EL）裝置用阻隔膜技術，可以用卷對卷（Roll to Roll）方式將氧化矽類（SiO2）的高阻隔性單層膜與銦鋅氧化物（Indium Zinc Oxide；IZO）一起成形。以蝕刻膠進行的電極加工，相較於使用許多溶劑的光蝕刻法（Photolithography），環境負荷也較低。
在實證實驗中，採用了帝人的聚2,6萘二甲酸乙二酯（Polyethylene Naphthalate；PEN）薄膜，氧化矽類阻隔膜是以電漿輔助化學氣相沈積法（Plasma enhanced CVD；PECVD）形成，銦鋅氧化物膜則以濺鍍方式成膜。網板印刷時透過塗佈蝕刻膠，將銦鋅氧化物直接圖案化，進而形成透明電極。
在水蒸氣透過率（Water Vapor Transmission Rate）評估實驗中，確認新阻隔膜達到6.3×10-6 g∕m2∕日的高阻隔性。此外，將膜厚720 nm的薄膜，以40℃、濕度90%的條件測試616小時後，確認仍能維持其封裝效果。
有機EL素材或電極對水份、氧氣的耐受性較差，而基材的阻氣性能則與使用壽命有直接相關性。相較於玻璃，水蒸氣等較容易穿透薄膜，因此有必要在薄膜表面形成阻隔膜。但一般技術存在著使用批次處理的真空製程、多層膜工序較多等問題，而新技術以卷對卷製程就可完成，將可望大幅提高生產的效率化。目前研究團隊也持續進行有機EL材料技術的實證，預計在2022年達到實用化之目標。