高精密OLED金屬罩蝕刻技術

 

刊登日期:2003/7/5
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有機發光二極體(OLED)或一般所知的有機電激發光(Organic Electroluminescence, OEL)顯示技術,具有低操作電壓、厚度薄、主動發光、全彩色而無需背光源、無視角限制、高應答速度,及製作容易等優點,使其成為發展潛力相當被看好的下一代顯示技術。隨著消費者對電子產品高顯示畫質的期待,OLED顯示器的影像解析度必須朝向高畫素(SVGA, XGA, SXGA...)發展,OLED重複蒸鍍製程中的金屬罩或PLED塗佈製程中的金屬網板,不可避免地亦須滿足高精密度的尺寸公差要求,這種高精密度的尺寸公差要求隨著顯示器大型化而更趨嚴峻。OLED蒸鍍用金屬罩,其三個要求即為開口Pattern 之尺寸公差、累積定位公差及與Pattern低熱膨脹特性。金屬罩(Metal Mask)在OLED顯示器中的主要功能,在於提供不同顏色發光薄膜之高解析度蒸鍍量產化製程所需之遮罩。如果蒸鍍用金屬罩尺寸及定位精度不佳,將造成OLED顯示器不同顏色(發光薄膜)錯亂現象,嚴重影響各有機發光層發光效率不均,而使得顯示面無法呈現高解析度的文字、畫面或圖案。雖然發光薄膜材料良寙決定了顯示板亮度及壽命等,但金屬罩卻決定了顯示板其畫質的均勻性(不均勻的Mura或Moire)。本文僅針對影響金屬罩定位精度之蝕刻技術一些重點因素加以討論。
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