日本物質材料研究機構以精密控制光源強度與集光位置的脈衝雷射照射高分子薄膜，成功開發出可簡便地製作高分子奈米線之技術。
以往的鑄型手法僅止於直徑約300奈米左右之水準，無法發揮奈米材料特有的量子尺寸效果；不過研究團隊以新技術所製作的奈米線，經確認其直徑僅有25奈米、長度達20微米並含有直徑15奈米的氧化鐵粒子。
新產品除可大幅達到細線化水準外，還能夠賦予各種不同之機能性，用途相當廣泛。此外，如果以大面積雷射掃瞄的方式製作，便可能達到量產化目標。由於高分子奈米線具有柔軟性與透明度，因此也可望應用於感測器、開關等奈米元件領域上。