談電解銅箔的顯微結構與性能

 

刊登日期:2001/9/5
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電解銅箔乃經由酸性硫酸銅高電流密度電鍍而得到的電鍍層,再從陰極剝離經各種表面處理使適用於印刷電路板用途。由於經由高速電鍍其顯微結構及冶金特性異於傳統的鍛造軋延的材料結構,具有不同的結晶位向、表面形態、晶粒細小並具有很多的點缺陷(空孔)、線缺陷(差排)、面缺陷(三晶界)、體缺陷(雙晶)及針孔、微孔、通透孔等,從而影響銅箔的物理、機械及冶金性能。這些缺陷並非只有不良的影響,有時經加以控制而可以得異於尋常的高強度(大於70Ksi ,比一般鋼材還高),同時能維持其延展性(傳統銅箔通常延展性不良),或強度適當而具有高的延展性(伸長率高於25%),不亞於軋延銅箔而可用於軟性印刷電路板。因此,如何控制銅箔的冶金結構以得到優良的冶金特性,乃銅箔廠商製程及產品研發的首要。本文嘗試介紹電解銅箔的缺陷、結構特徵及一些特殊的退火特性及疲勞性能,並指出一些待解決的問題。目前銅箔廠商在電解銅箔的配方與操作條件/冶金品質與結構/機械性能關係的評估與確認僅達到知其可以而不知其所以的境界,因此此課題為極具挑戰及有趣的冶金研究題目。
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