電解銅箔技術發展趨勢

 

刊登日期:2001/9/5
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高性能電解銅箔為缺陷少、細晶粒及或等軸晶粒、低表面粗糙度、高強度、高延展性、更薄的銅箔,經過適當的表面處理,在PCB 製程具有高的Etching Factor 、低的殘銅率,避免短路、斷路適用於高頻可製成高密度細線化薄化的高可靠度PCB 用銅箔。本文首先介紹世界及我國電解銅箔產業發展及兼併的歷史,日本如何在90 年代初期完成寡佔世界銅箔市場的過程,其次再介紹高性能電解銅箔在90 年代後期隨著電子及PCB 產業的技術發展須求才被開發出的背景,並對PCB 用電解銅箔的兩面(Shiny 及Matte)特性及銅箔冶金性能須求加以介紹,並試著對高性能電解銅箔加以定性的定義及指出高性能電解銅箔製程技術發展的特性。最後,介紹幾種代表性的高性能電解銅箔:如高強度細晶粒低稜線(VLP)銅箔,DST(Drum Side Treated)銅箔,細線路用銅箔及軟性印刷電路板用之電解銅箔的特性。
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