準分子雷射退火經常被運用於製作低溫多晶矽膜。由於準分子雷射退火期間之相變化過程(Phase Transformation Process)將影響多晶矽之晶粒大小與結晶品質，為了解析準分子雷射退火期間之相變化過程，本研究建構一套即時(Real-time)原位(In-situ)時間解析(Time-resolved)之雙檢測光源(Two Probe Lasers)線上光學檢測系統，來檢測矽膜經準分子雷射照前後矽膜頂部與底部相變化過程，並將所量測之波形藉由MATLAB與Excel 軟體來計算液態矽之矽膜平均凝固速率(Solidification Velocity)。