日本NTT Advanced Technology開發了一項具有優異耐光性、折射率為1.9之高折射率奈米壓印樹脂，具有與既有製品同樣的高透明度與良好的奈米壓印性能，並可透過旋轉塗佈(Spin Coating)形成均勻的薄膜。由於其耐光性超過既有製品，故可望廣泛應用於可見光範圍內要求可靠性的擴增實境(AR)/虛擬實境(VR)等光學元件應用。
新開發的奈米壓印樹脂可因應高折射率玻璃基板的折射率，透過奈米壓印形成線寬為45～500 nm的奈米圖案，且在400～800 nm波長範圍內具有高度的光透過性。
近年來，UV奈米壓印製程已被應用於AR/VR波導等光學元件的形成，其中以擴大視角等目的，對於高折射率奈米壓印樹脂形成高折射率微結構的需求亦持續增加。然而相較於折射率1.8以下的樹脂，折射率1.9以上的樹脂仍有耐光性大幅劣化的問題。因此NTT Advanced Technology利用多年累積的折射率控制技術將樹脂配方予以最佳化，開發出改善了既有製品的耐光性問題，且可同時維持折射率與良好光學性能之奈米壓印樹脂。