在採用磁濾管系統的電漿成膜製程中,磁濾線圈所產生的磁場與基板偏壓所產生的電場對電漿特性與成膜品質有非常重要的影響,由於電漿與電磁場間牽涉非常複雜的交互作用過程,因此以電腦模擬來研究電磁場對電漿的作用機制是相當有效的方法,本文將介紹使用於電磁場影響電漿成膜製程模擬研究的電漿粒子式模型與其應用。 Download檔案下載 加入會員 分享 轉寄 聯絡我們 延伸閱讀 《工業材料雜誌》1月刊 四十周年特刊,集結14項領域技術共同展現材料... 化合物半導體製程用CVD SiC鍍膜技術 以二氧化鈦為基礎的薄膜(下) 耐久性提高40倍以上的觸控面板用抗反射薄膜 不需燒結,塗佈後以光進行奈米多孔質陶瓷成膜 熱門閱讀 從分子設計到原子級控制,半導體前段製程材料的挑戰與機會 由VLSI 2025 窺看半導體與AI運算技術的結合(上) ALD與ALE技術整合:次世代薄膜製程的挑戰 從2025日本智慧能源週看氫能技術的最新進展 由VLSI 2025 窺看半導體與AI運算技術的結合(下) 相關廠商 台灣石原產業股份有限公司 金屬3D列印服務平台 喬越實業股份有限公司 台灣永光化學股份有限公司 桂鼎科技股份有限公司 大東樹脂化學股份有限公司 志宸科技有限公司 台灣大金先端化學股份有限公司