本文探討一種新型微波作用腔,系統的主體為一近光學共振腔,其主要應用為材料加熱處理,特色為將電磁波聚焦於小區域,藉二維掃描方式快速而均勻地處理大面積材料。由於近光學共振腔具有高Q值(品質因子)特性與聚焦能力,在聚焦區可以產生極高的場強,故其加熱速率遠大於現在通用的封閉式作用腔。此作用腔的另一創新優點為樣品可在鏡面間的開放空間連續通過,故面積不受限於共振腔的大小。此外,藉由二維掃描方式處理樣品,亦可取得高於封閉作用腔所能達到的均勻度。 Download檔案下載 加入會員 分享 轉寄 聯絡我們 延伸閱讀 京都大學開發SiC新型電晶體,實現600℃高溫運作 矽基板雙面三次元封裝技術,封裝面積縮減約80% AI×機器人推動材料研發革新,信州大學啟動Robot Lab聯盟 從POWTEX 2025大阪粉體工業展看粉體技術發展趨勢 射頻聲波濾波器的技術發展以及挑戰 熱門閱讀 從2026日本奈米展看材料發展 功率半導體元件與散熱技術 高純鎵金屬循環回收技術—從二次資源提取純化到產業應用 民生用廢塑膠容器智慧辨識與分選技術之發展與實場應用 寬能隙功率半導體封裝之結構設計與互連技術挑戰 相關廠商 新加坡商英彼克有限公司台灣分公司 台灣石原產業股份有限公司 金屬3D列印服務平台 大東樹脂化學股份有限公司 台灣大金先端化學股份有限公司