本文探討一種新型微波作用腔，系統的主體為一近光學共振腔，其主要應用為材料加熱處理，特色為將電磁波聚焦於小區域，藉二維掃描方式快速而均勻地處理大面積材料。由於近光學共振腔具有高Q值（品質因子）特性與聚焦能力，在聚焦區可以產生極高的場強，故其加熱速率遠大於現在通用的封閉式作用腔。此作用腔的另一創新優點為樣品可在鏡面間的開放空間連續通過，故面積不受限於共振腔的大小。此外，藉由二維掃描方式處理樣品，亦可取得高於封閉作用腔所能達到的均勻度。 Download檔案下載 加入會員 分享 轉寄 聯絡我們 延伸閱讀 無須蝕刻即可形成電子迴路之新技術 2018年電子資訊產業全球生產額可望創新高，達2.8兆美金 比表面積可比一般紙高出240倍的多孔質紙製作新技術 熱應力耐久性提高40%之功率半導體基板材料 富士電機將進行電力耗損最多可減少50%之功率半導體模組生產 熱門閱讀 從專利分析看Micro-LED全球趨勢(上) 迎向全固態電池時代 2018深圳國際全觸與顯示展現場報導系列一 從專利分析看Micro-LED全球趨勢(下) 纖維素奈米纖維(CNF)複合材料最新應用 相關廠商 金屬3D列印服務平台 名揚翻譯有限公司