第十一屆亞太電鏡年會見聞(下)

 

刊登日期:2016/11/30
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張睦東

廠商巡禮
掃描式及穿透式電子顯微鏡
在廠商參展方面,JEOL目前主打的市場分別以高速率與高階高解析為主(圖三)。在 SEM 部份推出 JSM-7800F PRIME,其結合 in-lens FEG Source 以及 Gentle Beam 的功能,可在 1kV 下達到 0.7 nm 的解析度,可以看出 JEOL 在低電壓 SEM 電鏡領域的能力。其最低電壓可達 10 V,對於非導體高分子材料有相當好的應用性,在輻射損傷的領域上也有相當好的應用。其於多樣性樣品檢測之競爭力也會因此增加許多。



圖三、JEOL於奈米檢測上的最新設備


在樣品的廣度方面,在特色的說明上也是強調型態及樣品種類的多樣性。另一套 SEM 主推設備為 JSM-IT100,其強調於機器設備本身的穩定性及快速性,可提供高效能的檢測能力。在TEM 方面,JEOL 持續主打冷場發射槍於高階檢測的重要性,主要也可與FEI進行產品的區隔(FEI至今仍無冷場發射電子槍於球差校正系統的相關產品)。

SEM部份與 JEOL 競爭的為 Hitachi,其主打桌上型的環境式 SEM,其環境型已經可以達到大氣型,因此完全不需要在 Column 增設 Pump。其Membrane設計上與傳統不同,直接將 Membrane 裝設於 Column 與樣品室的分界處,利用此讓樣品區直接就是大氣區,利用微操控器控制樣品與 Membrane 的距離至可觀看的距離,此設計可謂十分聰明。但若能將整個光路設計倒過來似乎是更聰明的做法,利用重力將樣品直接置放於 Membrane上,可更縮減兩者間的距離以提高解析,更可把上方空間清出以利 OM 系統的架設。不過這樣的設計經詢問已經被其他的電鏡廠商相關專利設計卡死,因此他們還是主打微操控系統以控制相對距離的方式。


今年 JEOL在 SEM部份推出 7800F 的加強版,其結合 in-lens FEG Source 以及 Gentle Beam 的功能,可在 1kV 下達到 0.7nm 的解析度,可以看出 JEOL在低電壓 SEM 電鏡領域的能力,其最低電壓可達 10 V,於多樣性樣品檢測之競爭力也會因此增加許多。其在特色的說明上也是強調型態及樣品種類的多樣性,我想這也是未來發展的新趨勢(圖四)
 
在 TEM 部分,JEOL 近期主推的 GRAND ARM 除了在 Emitter 真空進行強化,以及解析能力推至 45 pm外(63 pm為規格指標),其在會議中主打 EDS 的敏感度優化,藉由兩支偵測器呈現直角式的擺放,可讓整體的 Solid Angle 增進至原來的 300 % (由 0.552 sr 進步到 1.632 sr)。比較值得注意的是,此系統的 Cs 校正器部分,JEOL不是跟 CEOS合作,而是發展他們自己的 DELTA Corrector 系統,在設備上的主體性又較 ARM200F 來得更加完整,可能軟體的系統化會更好,軟體穩定性應該也會有所提升(圖五)。


圖五、雙球差校正TEM顯微鏡

 
JEOL 在 ARM200F 部分也進行了升級版,升級版的名字為 JEM-ARM200F,我想應該是因為在 JEM 這個系列的產品銷售都不錯的關係,因此取了這樣的一個商品名稱。與原先比較大的不同在於,其在電子槍的真空度比之前更好,可維持 1*10-9 Pa 以下,而在訊號擷取上可以同時收取四種不同的散射訊號,包括背向散射電子,GUI 的介面設計上,有再整合入Tomography及Holography,EDS的選擇上,應該也可以和 GRAND ARM一樣,選擇---以上為部分節錄資料,完整內容請見下方附檔。

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