AAO奈米模板壓印技術在光學抗反射結構之應用

刊登日期:2012/8/5
  • 字級

隨著智慧型手機和平板電腦等商品的日益普及,使得消費者在選擇上會更加著重於產品使用的便利性與功能性,因此具有高效能抗反射、抗眩光功能的光學表面處理技術應運而生。其中,利用具多孔奈米結構的陽極氧化鋁(Anodic Aluminum Oxide; AAO)做為模板材料被視為有極大的商業化潛能,尤其對於奈米壓印製程在光學抗反射結構的量產化技術上,扮演著極關鍵的角色。因此,本文針對奈米壓印技術的概念、製程方式及技術特色做一介紹與探討,並簡要說明在陽極氧化鋁模板操控技術的研究,以及其在奈米壓印與奈米光學抗反射結構的應用。


分享
為此篇文章評分

延伸閱讀

相關廠商