近十年來，由於光學調製性能的特殊性，奈米結構光學膜片吸引了許多研究與應用上的關注，這些光學特性包含雙折射特性、抗反射特性與負折射率特性等。奈米結構光學膜片對光波的交互作用行為有別於傳統的折射光學與繞射光學行為，其交互作用領域屬波動光學範圍，目前已有多個理論模型與設計工具可對光場在奈米結構中之行為進行探討與模擬，透過對光場在奈米結構中傳播行為的改變，可進行奈米結構設計與優化。然而，奈米結構製程的成熟度卻是決定奈米結構光學膜片能否實用化之關鍵因素，因此，本文除了介紹目前主要之奈米結構膜片種類外，也將說明各種奈米壓印製程的發展狀況，並做製程特性的比較。