製作速度快100倍之超導電薄膜新技術

 

刊登日期:2010/12/16
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日本芝浦工業大學與產業技術綜合研究所共同開發出快速製作零電阻之超導電薄膜技術,製作速度最多比以往快100倍;研究團隊採用在絕對溫度39度時零電阻之MgB2,將此材料浸在絕對溫度20度之液態氫中,並將直徑1µm大小的超電導材料微粒子以氣體分散成浮游粉塵後吹附在鋁基板上,半小時內即可完成長寬各5cm,厚2µm的薄膜,此新製法也可用於利用液態氮之釔系氧化物超電導線材薄膜,不需要在真空裝置中進行也不需要加熱等後處理,即可達到與原料微粒子同樣性質,製作時間可縮減至1/30~1/100。


資料來源: 日經產業新聞/材料世界網編譯
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