塗佈氧化鋅即可成膜的新技術

 

刊登日期:2010/4/20
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日本Tosoh-finechem與宮崎大學共同開發出將氧化鋅(ZnO)用塗佈法即可成膜的技術,只要將新開發的鋅材料吹附在目標物上,在室溫及大氣壓力下即可成膜。氧化鋅薄膜可使用於液晶等的薄型面板或薄膜太陽電池的透明電極上,但現用的噴濺法(Sputtering)及化學氣相沉積法(CVD)皆需要大型設備,使用塗佈法可大幅縮短工程且降低成本。

Tosoh-finechem使用其所開發的特殊鋅材料,採用噴霧式(Spray)的塗布製程,對著基板等目標物噴灑便會起化學反應形成氧化鋅薄膜。控制成膜條件,已透過X光測定確認結晶性的氧化鋅在室溫也可形成。膜厚數百奈米,可視光的光透過率為80%以上。

以往真空濺鍍法或CVD等成膜製程復雜且需要所費不貲的設備,而此次開發的新材料及製程技術除了不需要濺鍍的真空設備、也不需要像CVD法的高溫熱處理,只要靠噴霧塗佈即可成膜,除了減少成本並易於適用於大面積。因其為低溫製程,還可應用在塑膠基板上,並可望促進可彎曲性材料的電子紙、觸控面板等等的實用化。


資料來源: 化學工業日報/材料世界網編譯
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