稀產金屬於10年前開始開發不純物質最小極限之結晶育成用氧化鎵 ■ 次世代半導體材料 — 氧化鎵 Ga2O3 稀產金屬致力於開發純度最佳的氧化鎵 ►純度：99.99% Si 含量 5ppm以下 ►純度：99.999% Si 含量 3ppm以下 ►應用：燒結用、結晶生成等 ■最佳半導體靶材—氧化銦 In2O3 稀產金屬除了提供純度99.99%氧化銦化合物外，同時也提供如：氯化銦、硝酸銦、氫氧化銦 （廣編企劃） 更多詳細原料供應，請見： 台灣岩谷股份有限公司 https://www.iwatani.com.tw/ja-jp/about 電 話：02-2506-6955、傳 真：02-2507-2789、EMail：service@iwatani.com.tw 稀產金属株式會社 https://www.kisankinzoku.co.jp/ 電 話：+81-06-6473-5227 ★完整檔案內容請點選「檔案下載」 分享