本文概述常見之電漿源與電漿表面改質技術，不同類別之電漿源可包括：泝氣體電漿源，如射頻(RF)輝光放電電漿源、電子迴旋共振(ECR)電漿源、電暈放電電漿源、大氣電弧電漿源；沴真空電弧電漿源；沊雷射電漿源。電漿表面改質技術包括電漿濺射與蝕刻、電漿植入、電漿蒸鍍及電漿噴塗等。不同類別之電漿源與電漿表面改質技術可應用於不同材料，改變表面與材料物理與化學特性，如表面硬度、耐磨耗、耐腐蝕性、潤濕性、金屬附著性、化學組成及生物相容性等，以符合不同產業產品之特殊需求。 Download檔案下載 加入會員 分享 轉寄 聯絡我們 延伸閱讀 熱門閱讀 從 Battery Japan 2024看鋰電池與儲能產業發展 加氫站加氫協定之研究與未來發展趨勢 半導體產業廢硫酸純化再利用 由ISSCC 2024看半導體發展趨勢與記憶體運算技術探討 歐盟新電池法生效推動循環經濟與永續發展 相關廠商 金屬3D列印服務平台 大東樹脂化學股份有限公司 台灣大金先端化學股份有限公司