本文概述常見之電漿源與電漿表面改質技術，不同類別之電漿源可包括：泝氣體電漿源，如射頻(RF)輝光放電電漿源、電子迴旋共振(ECR)電漿源、電暈放電電漿源、大氣電弧電漿源；沴真空電弧電漿源；沊雷射電漿源。電漿表面改質技術包括電漿濺射與蝕刻、電漿植入、電漿蒸鍍及電漿噴塗等。不同類別之電漿源與電漿表面改質技術可應用於不同材料，改變表面與材料物理與化學特性，如表面硬度、耐磨耗、耐腐蝕性、潤濕性、金屬附著性、化學組成及生物相容性等，以符合不同產業產品之特殊需求。 Download檔案下載 加入會員 分享 轉寄 聯絡我們 延伸閱讀 熱門閱讀 功率半導體元件與散熱技術 寬能隙功率半導體封裝之結構設計與互連技術挑戰 功率半導體之高導熱陶瓷基板材料技術與應用發展 廢氫氟酸轉製冰晶石有價資源化技術 AI世代之次世代功率半導體產業發展 相關廠商 新加坡商英彼克有限公司台灣分公司 台灣石原產業股份有限公司 金屬3D列印服務平台 大東樹脂化學股份有限公司 台灣大金先端化學股份有限公司