電漿源與電漿表面改質技術簡介

 

刊登日期:2006/7/5
  • 字級

本文概述常見之電漿源與電漿表面改質技術,不同類別之電漿源可包括:泝氣體電漿源,如射頻(RF)輝光放電電漿源、電子迴旋共振(ECR)電漿源、電暈放電電漿源、大氣電弧電漿源;沴真空電弧電漿源;沊雷射電漿源。電漿表面改質技術包括電漿濺射與蝕刻、電漿植入、電漿蒸鍍及電漿噴塗等。不同類別之電漿源與電漿表面改質技術可應用於不同材料,改變表面與材料物理與化學特性,如表面硬度、耐磨耗、耐腐蝕性、潤濕性、金屬附著性、化學組成及生物相容性等,以符合不同產業產品之特殊需求。


分享