可實現線寬0.6μm微細印刷之「二元表面結構」新技術

 

刊登日期:2021/6/30
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日本物質材料研究機構(NIMS)發表開發了一項「二元表面結構」電子配線印刷技術,可在次微米級的任意範圍內選擇性地極化(Polarization),選擇性地吸附金屬奈米粒子,進而形成微細的電子配線。與既有方法相比,能大幅縮短製程,達到低成本化,並可簡單地印刷1~100 μm的配線,將可望應用於次世代行動裝置或穿戴式設備等用途。

「二元表面結構」電子配線印刷技術係在表面施以部分活性化的紫外線照射,以及僅在經過活性化的表面進行極性的化學處理等2項製程,讓油墨吸附力與不同表面能(Surface Energy)的範圍予以精密區分。由於可將表面任一微小範圍進行極性處理,選擇性地吸附金屬奈米粒子,故可達到最小線寬0.6 μm的微細印刷。

2項製程皆可在大氣條件下短時間、簡便地進行,與光刻微影(Photolithography)技術相比,可望大幅縮短製程,促進低成本化。目前Priways與C-INK兩家公司已開發了金屬奈米油墨用微細印刷裝置「金屬奈米粒子配列系統」,並計畫與對於各種基板具有良好金屬油墨密著性之專用底漆(Primer)一同發售。利用專用底漆,在玻璃、聚醯亞胺或透明塑膠薄膜上印刷電子配線之際,與基材之間將能獲得良好的密著性。


資料來源: https://www.nims.go.jp/news/press/2021/05/202105270.html
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