以磁控濺射法濺鍍二氧化矽薄膜表面粒徑之研究

 

刊登日期:2004/5/5
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本文使用射頻磁控濺射系統,於B270玻璃基板上濺射二氧化矽(SiO2)光學薄膜,經過掃描式電子顯微鏡量測薄膜表面微觀結構,並用影像處理技術統計薄膜表面粒徑分佈與大小,從中可發現,表面粒徑大小與分佈受濺射製程參數所控制,如輸出功率、載入氣體流量、薄膜厚度等,藉由調動製鍍參數達到控制SiO2 薄膜表面粒徑大小的目的。

 

 


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