以磁控濺射法濺鍍二氧化矽薄膜表面粒徑之研究：材料世界網

本文使用射頻磁控濺射系統，於B270玻璃基板上濺射二氧化矽(SiO2)光學薄膜，經過掃描式電子顯微鏡量測薄膜表面微觀結構，並用影像處理技術統計薄膜表面粒徑分佈與大小，從中可發現，表面粒徑大小與分佈受濺射製程參數所控制，如輸出功率、載入氣體流量、薄膜厚度等，藉由調動製鍍參數達到控制SiO2 薄膜表面粒徑大小的目的。