工研院材化所獲證專利快訊─用於廢水處理之回收設備及廢水處理系統、消臭組成及消臭方法、積層板及其製作方法

刊登日期:2017/5/4
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用於廢水處理之回收設備及廢水處理系統
主要技術特徵
一種用於廢水處理之氨氮回收設備,其包括:pH值控制單元,係容納待處理之氨氮廢水,並調整該待處理之氨氮廢水之pH值至10~13;薄膜蒸餾單元,係連通該pH值控制單元,並接收該經調整pH值之待處理之氨氮廢水,以分離氨氮和廢液;以及電透析單元,係連通該薄膜蒸餾單元和該pH值控制單元,以接收該分離自該薄膜蒸餾單元之廢液,並電透析該廢液以回收液鹼,俾饋送該經回收之液鹼至該pH值控制單元中。本揭露復提供一種廢水處理系統。

功效特點與產業效益
本發明揭露係關於一種用於廢水處理之回收設備及廢水處理系統,尤其是關於一種自廢液回收鹼之氨氮回收設備及廢水處理系統。含氮化學品在石化業及高科技產業(例如:半導體製造業、光電業及LED等)的生產過程中係為重要原料及化學品,然而該製程將產生大量含氮廢液或廢水,若無適當處理將使承受水體水質遭受污染,而造成水中溶氧不足或優養化。氨氮廢水處理
技術通常可分為生物處理(例如:生物硝化脫氮技術(A2O)、薄膜生物反應器(MBR)、BioNET/AFB及厭氧氨氧化技術等)、物化處理(例如:吸附、離子交換、RO、電透析、薄膜蒸餾、氣提、加氯、磷酸銨鎂結晶及電解氧化等)及結合物化及生物處理之
混合系統(Hybrid System),其中,生物處理技術較適合處理中低濃度氨氮廢水(約500mg/L以下),而一些物化技術則可以應用至不同濃度氨氮廢水處理、濃縮及回收。

申請專利範圍
一種氨氮回收設備,其包括:pH值控制單元,係容納待處理之氨氮廢水,以及調整該待處理之氨氮廢水之pH值至10~13;薄膜蒸餾單元,係連通該pH值控制單元,以接收該經調整pH值之待處理之氨氮廢水,俾分離氨氮和廢液,且該薄膜蒸餾單元係改良式薄膜蒸餾器,該改良式薄膜蒸餾器並包括進氣空間、排液空間及分隔該進氣空間和排液空間之薄膜;以及電透析單元,係連通該薄膜蒸餾單元和該pH值控制單元,以接收該分離自該薄膜蒸餾單元之廢液,並電透析該廢液以回收液鹼,俾饋送該經回收之液鹼至該pH值控制單元中。

消臭組成及消臭方法
主要技術特徵
本發明是一種消臭組成,是環保的組成配方。消臭組成包括一鹼性溶液、一單寧酸、一兒茶素及一安定劑。

功效特點與產業效益
除臭劑市場規模持續擴大,臭味有多種不同的來源。例如具有蛋腐敗臭味的硫化氫(Hydrogen Sulfide; H2S)、具有刺激性臭味的甲醛(Formaldehyde; HCHO),可能來自接著劑、建材、防腐劑等。臭味往往造成人的不適感,因此需要使用除臭劑消除造成異味的來源。使用化學原料的除臭劑對人體有不良影響,因此業界發展天然原料。舉例來說,天然材料單寧酸與兒茶素可分別消除硫化氫與甲醛臭味。然而,單寧酸與兒茶素容易互相縮合聚合反應,會喪失各自的除臭效果,無法長期穩定保存。因此目前市場沒有能同時消除硫化氫與甲醛臭味的天然除臭劑。

本發明係有關於一種消臭組成及消臭方法。消臭組成可安定儲存,展現穩定的除臭功效,其組成包括一鹼性溶液、一單寧酸、一兒茶素及一安定劑,安定劑包括聚乙二醇。本消臭組成,是可穩定儲存之硫化氫與甲醛雙效型清除劑,能用以同時消除硫化氫及甲醛造成的臭味,且其使用天然植物萃取物質為材料,對人體無害,也對環境無不良影響,是環保的組成配方。

申請專利範圍
一種消臭組成,包括:一鹼性溶液、一單寧酸、一兒茶素及一安定劑,包括聚乙二醇、海藻糖、硫辛酸或上述之組合,其中該消臭組成的pH值是9~11,該兒茶素:該聚乙二醇的重量比是1:0.1~10。

積層板及其製作方法
主要技術特徵
本發明是有關於一種基材及其製作方法,提供一種積層板,其中基材與金屬層之間具有良好的附著,另提供一種積層板的製作方法,使得基材與金屬層之間具有良好的附著。

功效特點與產業效益
軟性印刷電路板具可撓、可立體配線以縮減體積以及質輕的特性。其中,聚亞醯胺軟性基材因具有厚度可調、優異之耐熱性、電絕緣性與機械性質,其應用與需求與日俱增。當電子產品需求朝向多功能、高效能、薄形化與輕量化,高密度構裝材料與製程技術關鍵性地影響製程良率、產品的可靠度與使用者的信賴度。伴隨高密度構裝設計,對於窄線寬間距製程的需求逐漸增加。然而,現今高密度構裝用的2L-FCCL是以濺鍍法生產,其價格較高,且相較於塗佈法或壓合法,以濺鍍法所形成之金屬層與基材之間的附著力較差。因此,在構裝製程中,二層軟板基材易因其他高溫步驟而影響製程良率與產品可靠度。

本發明的積層板包括一基材、一第一金屬層以及一第二金屬層。基材的材料為聚亞醯胺或聚醯胺。第一金屬層配置於基材的表面處,第一金屬層包括選自Pd、Ni、Pt及其組合中的金屬與矽烷化合物,金屬粒子的平均粒徑分佈小於15 nm。第二金屬層配置於第一金屬層上。

本發明使用含有矽烷化合物的金屬前驅物溶液對基材進行前處理,以在基材的表面處形成作為觸媒金屬層的第一金屬層。其中,矽烷化合物使得金屬離子在還原後更緊密地結合於基材的有機碳鏈上,且金屬粒子具有小於15 nm的平均粒徑分佈,因此基材與第一金屬層之間具有良好的結合力,進而提升基材與第二金屬層之間的附著性。

申請專利範圍
本發明的積層板包括一基材、一第一金屬層以及一第二金屬層。基材的材料為聚亞醯胺或聚醯胺。第一金屬層配置於基材的表面處,第一金屬層包括選自Pd、Ni、Pt及其組合中的金屬與矽烷化合物,金屬粒子的平均粒徑分佈小於15 nm。第二金屬層配置於第一金屬層上。


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