日本高知工科大學與住友重機械工業共同開發了一項以較低溫度在金屬基板上製作出高品質氧化膜之技術。新技術是以 200℃，比過去 400℃還要低的溫度進行氧化膜製作。由於可在塑膠製基板製鍍金屬氧化膜，將可望應用於可撓式電子機器。 研究團隊改良了用於金屬表面處理之離子產生裝置。首先是將氧氣以高溫使其變成原子與電子分離之電漿狀態，而氧原子為帶正電的離子。把氧氣注入之後，氧分子從原子分離，電子依附後，形成負氧離子。讓金屬基板表面成為帶正電狀態後，與負氧離子緊密結合，便形成了堅固的氧化膜。 研究團隊將離子產生裝置回路變更為以小刻度切換電源的形式，電源開啟時形成電漿，關閉時電子會與氧原子結合。在實驗中，每 5~10秒進行反覆電源開關之後，即在銅或鋅的基板上製作出數百 nm的氧化膜，且膜的表面平整無缺陷。 資料來源: 日經產業新聞 / 材料世界網編譯 加入會員 分享 轉寄 聯絡我們 延伸閱讀 不需燒結，塗佈後利用光進行奈米多孔質陶瓷成膜 僅需塗覆即可阻氣 日本東京NEPCON JAPAN & LIGHTING JAPAN & AUTOMOTIVE WORLD 2015特別報導系列(二) 東芝以鐵白金在基板上成膜 電磁場影響電漿成膜製程模擬之電漿粒子式模擬方法與應用 熱門閱讀 從IDW 2019看「OLED」、「QLED」與「microLED」的發展(上) 鋰電池材料最新發展趨勢(上) 超薄均熱板之技術與發展趨勢 日本生物降解性塑膠發展現況 高分子發泡技術及市場發展(上) 相關廠商 台灣大金先端化學股份有限公司 名揚翻譯有限公司 大東樹脂化學股份有限公司 翹慧事業股份有限公司 志宸科技有限公司 金屬3D列印服務平台 華錦光電科技股份有限公司 友德國際股份有限公司 桂鼎科技股份有限公司 喬越實業股份有限公司 科邁斯科技股份有限公司 台灣永光化學股份有限公司 誠企企業股份有限公司