低溫製作氧化膜

 

刊登日期:2017/3/22
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日本高知工科大學與住友重機械工業共同開發了一項以較低溫度在金屬基板上製作出高品質氧化膜之技術。新技術是以 200℃,比過去 400℃還要低的溫度進行氧化膜製作。由於可在塑膠製基板製鍍金屬氧化膜,將可望應用於可撓式電子機器。
 
研究團隊改良了用於金屬表面處理之離子產生裝置。首先是將氧氣以高溫使其變成原子與電子分離之電漿狀態,而氧原子為帶正電的離子。把氧氣注入之後,氧分子從原子分離,電子依附後,形成負氧離子。讓金屬基板表面成為帶正電狀態後,與負氧離子緊密結合,便形成了堅固的氧化膜。
 
研究團隊將離子產生裝置回路變更為以小刻度切換電源的形式,電源開啟時形成電漿,關閉時電子會與氧原子結合。在實驗中,每 5~10秒進行反覆電源開關之後,即在銅或鋅的基板上製作出數百 nm的氧化膜,且膜的表面平整無缺陷。

資料來源: 日經產業新聞 / 材料世界網編譯
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