先進光罩製作技術的挑戰

刊登日期:2001/8/5
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因應現階段積體電路快速微細化的腳步,並面對光罩微影設備廠商無法適時開發出對應現階段光源需求之生產工具,光罩製作必須在諸多限制下,以PSM 、OPC 等特殊技術,完成客戶對先進光罩之需求,因而展開光罩技術一連串的挑戰。
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