數位生活趨勢下，使用智慧手持裝置將成為主流，而在戶外使用機會將大增，使得顯示產品上須具有高效能抗反射、抗眩光功能之光學表面處理。其中，奈米壓印技術被認為是具有可大量生產及低成本優勢之光學表面處理技術之一，而以電化學法製備之氧化鋁奈米壓印模板更是具有低成本、大量生產及商業化之潛力，在形成光學抗反射結構技術上將扮演著重要角色。因此，本文將介紹奈米壓印技術概念及簡要說明本實驗室於氧化鋁奈米模具製作技術、壓印及抗反射之研究。 Download檔案下載 加入會員 分享 轉寄 聯絡我們 延伸閱讀 從溶液製程到光電元件，材料的創新與挑戰 低黏度高分散–IJP噴印材料技術 《工業材料雜誌》2024年十一月號推出「光電元件材料溶液製程技術」... E Ink, We Make Surfaces Smart and Green LED封裝材料技術回顧與發展 熱門閱讀 玻璃基板上TGV的金屬化製程 玻璃成孔技術發展現況 半導體用抗反射層材料 玻璃通孔(TGV)之電鍍銅金屬化處理及其微結構改質 半導體用光酸材料技術 相關廠商 台灣石原產業股份有限公司 金屬3D列印服務平台 山衛科技股份有限公司 高柏科技股份有限公司 喬越實業股份有限公司 正越企業有限公司 照敏企業股份有限公司 台灣永光化學股份有限公司 桂鼎科技股份有限公司 台灣大金先端化學股份有限公司 大東樹脂化學股份有限公司 志宸科技有限公司