精細金屬蝕刻技術之黃光微影製程最佳化

刊登日期:2013/2/5
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本研究主要探討導光板成型模仁(Stamper)之微影製程最佳化,將應用田口方法(Taguchi Method)、類神經網路與基因演算法(Genetic Algorithm; GA)來建立微影製程最佳化系統,並針對導光板成形模仁上之微結構直徑進行微影製程參數最佳化。本研究第一階段先針對製程參數因子進行篩選,其中控制因子為烤箱溫度、烤箱時間、滾輪溫度、曝光能量、顯影速度等,且進行田口直交表實驗,找出符合品質特性目標之製程參數組合;第二階段運用田口實驗所得數據以倒傳遞神經網路建構品質預測器,再利用ANOVA分析來挑選控制因子,並以品質預測器結合基因演算法來尋找最佳製程參數組合。實驗結果顯示,本研究所得最佳參數組合將有效控制品質穩定度與節省成本。


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