N2O精準還原系統

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■ 產業現況
在半導體製程常會使用到大量的化學成分氣體,其中N2O 為製程直接排放第一名的單一溫室氣體,然而,傳統電熱水洗式尾氣處理設備(Local Scrubber) 對於N2O 的處理效率不佳(<10%),面對相關產業減碳之發展趨勢,此設備急需進行N2O 處理效率提升,以符合半導體產業供應鏈減碳之要求。
 
■ 技術特色
► 藉由添加還原劑 ( 如甲烷 ) 並精準控制添加量,可有效提升現有傳統電熱水洗式 Local Scrubber 對半導體製程高當量溫室氣體N2O 的處理效率
► 透過還原劑智能化添加系統同步監測 Local Scrubber 後端還原劑 ( 如甲烷 ) 殘留濃度,建立還原劑安全添加機制,以符合半導體產業易燃性氣體安全使用規範
N2O精準還原系統
■ 應用產品
本技術主要可應用於大幅提升半導體廠現有電熱水洗式Local Scrubber 對於製程高碳當量氣體N2O的處理效率。
 
■ 產業應用
本技術已與台積電之尾氣處理設備商臺禹科機、漢科系統簽訂專利與技術授權,針對既有電熱水洗式設備進行還原劑( 如甲烷) 精準添加系統改造,提升既有處理設備的減碳效率從<10% 到>60%,預估減碳效益可達21.7 萬公噸CO2e/ 年,衍生產值預期可達新台幣10 億元以上。
N2O精準還原系統
 
工研院材化所 S300 系統減碳技術研究室
相關文件:2024MCL-S300.pdf

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