N2O精準還原系統

■ 產業現況

在半導體製程常會使用到大量的化學成分氣體，其中N₂O 為製程直接排放第一名的單一溫室氣體，然而，傳統電熱水洗式尾氣處理設備(Local Scrubber) 對於N₂O 的處理效率不佳(<10%)，面對相關產業減碳之發展趨勢，此設備急需進行N₂O 處理效率提升，以符合半導體產業供應鏈減碳之要求。

 

■ 技術特色

► 藉由添加還原劑 ( 如甲烷 ) 並精準控制添加量，可有效提升現有傳統電熱水洗式 Local Scrubber 對半導體製程高當量溫室氣體N₂O 的處理效率。

► 透過還原劑智能化添加系統同步監測 Local Scrubber 後端還原劑 ( 如甲烷 ) 殘留濃度，建立還原劑安全添加機制，以符合半導體產業易燃性氣體安全使用規範。

 

■ 應用產品

本技術主要可應用於大幅提升半導體廠現有電熱水洗式Local Scrubber 對於製程高碳當量氣體N₂O的處理效率。

 

■ 產業應用

藉由N₂O 精準還原系統技術的建置，可推廣至國內、外半導體產業，提高廠內既有電熱水洗式設備對於高碳當量製程尾氣N₂O 的處理效率，大幅降低製程供應鏈之碳排放，達到節能減碳的成效，進而提高產業競爭力。

 

工研院材化所 S300 系統減碳技術研究室