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    午坊健司1、杉村早耶香1、卯田祥子1、井上茉優1、井岡和惠1、白井淳2、楊晉瑋2、福壽梨奈2、黃祈翰2、洪志宗2
    2026/05/05
  • 面板製程用酸性蝕刻液之高純度再生技術

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    鍾承宇
    2026/05/05
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    2026/05/05
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  • NIMS開發氧化鋁基觸媒,提升液氫儲存穩定性、降低蒸發損失

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    2026/04/28
  • Central Glass推出低環境負荷氟系溶劑,可廣泛應用於精密清洗與半導體製程應用

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    2026/04/27
  • 由ALUMINUM USA看鋁回收市場與技術發展

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    廖桓雍
    2026/04/20
  • TORAY推出新型PFAS-Free離型材料,佈局面板級封裝市場

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    2026/04/17
  • PFAS污染溯源新方法,碳同位素比分析應用

    工研院材化所
    2026/04/16
  • 世界首次觀測到「電漿極化子」,揭示半金屬高熱電性能機制

    工研院材化所
    2026/04/15
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