陰極電弧離子蒸鍍法(AIP)製作薄膜之技術與其他物理氣相蒸鍍法(PVD)製程可以有較高之鍍膜速率、較高之附著性以及高密度之品質。因而此鍍膜技術已被廣泛應用於濺鍍單一種類之薄膜於各類工件表面以增加產品之品質及壽命。而對於電弧離子鍍膜技術已有許多相關之改良製程被發展出來：可應用於高品質之化合物薄膜之製作；包括有類鑽薄膜(Diamond Like Carbon Thin Films, DLC)、低金屬顆粒之TiAlN 鍍膜產品以及TiN/AlN 、ZrN/AlN 超晶格多層複合膜等。本文介紹內容包括靶座磁控設計改良、機械遮護裝置設計、磁濾管設計改良以及機械過濾裝置配合磁場導引設計之應用等。若能善用此電弧離子鍍膜製程技術之優點並有效降低金屬顆粒之數量及大小；未來將有可能在製作奈米級厚度之多層薄膜材料領域，發展出更好或更新的應用領域。但是在此必須注意外加磁場導引裝置之應用可能會引起鍍膜之化學成份偏析現象，因此必須適當設計被鍍工件試片在鍍膜腔體中能夠有均勻之旋轉運動軌跡。 Download檔案下載 分享 轉寄 聯絡我們 延伸閱讀 高性能鍍膜雷射脈衝電弧鍍膜技術 熔射製程與即時監控技術之原理與應用簡介 複合材料表面機能提升及產品應用技術 《工業材料雜誌》1月刊 四十周年特刊，集結14項領域技術共同展現材料... 高速火焰熱噴技術之超音速氣流簡介 熱門閱讀 從2026日本奈米展看材料發展 功率半導體元件與散熱技術 民生用廢塑膠容器智慧辨識與分選技術之發展與實場應用 高純鎵金屬循環回收技術—從二次資源提取純化到產業應用 寬能隙功率半導體封裝之結構設計與互連技術挑戰 相關廠商 新加坡商英彼克有限公司台灣分公司 台灣石原產業股份有限公司 金屬3D列印服務平台 山衛科技股份有限公司 喬越實業股份有限公司 廣融貿易有限公司 高柏科技股份有限公司 正越企業有限公司 桂鼎科技股份有限公司 工研院材化所 材料世界網 照敏企業股份有限公司 台灣永光化學股份有限公司 台灣大金先端化學股份有限公司 大東樹脂化學股份有限公司 志宸科技有限公司