日本古河電工與流機工程開發出高功率光纖雷射PFAS分解技術，可將吸附全氟/氟烷基物質（PFAS）的活性碳表面迅速加熱至1,100℃以上，經測試確認，PFAS分解效率達99.999%以上。PFAS因難以自然分解，會長期殘留於環境中，造成土壤、地下水污染及人體健康風險，因此被稱為「永久化學物質」。隨著日本將全氟辛烷磺酸（PFOS）與全氟辛酸（PFOA）納入自來水水質標準，如何妥善處理吸附PFAS的材料，已成為重要課題。
這項技術將原本用於去除鋼材表面鏽蝕與塗膜的高功率光纖雷射，應用於PFAS分解。透過以雷射光直接照射處理，將光能轉換為熱能，使局部區域快速升溫至1,100℃以上，縮短達到分解所需溫度的時間。研究團隊回收處理後殘留於固相與氣相中的PFAS，並以液相層析串聯式質譜儀法（LC-MS/MS）進行定量分析，確認分解效率符合《巴塞爾公約》技術指引所列的環境無害化分解處理效率標準。
相較於傳統焚化方式，此技術無須將活性碳完全燃燒即可分解PFAS，有望實現活性碳再生利用，並降低二氧化碳排放。家公司將持續攜手推動技術實用化，以建立可於現場直接處理、兼具高效率的減容技術為目標，並整合PFAS污染調查、整治及無害化處理，提供一站式解決方案。