日本KH Neochem積極佈局使用於半導體製造化學增幅型光阻(CAR)的高純度溶劑產品，除了長期主流的丙二醇(PG)系溶劑之外，也因應極紫外光(EUV)光阻材料多樣化，拓展酮類、酯類及有機酸等產品，期涵蓋光阻稀釋、顯影、蝕刻及剝離等製程。目前高純度溶劑主力為PMA-P（高純度丙二醇單甲醚醋酸酯；PGMEA）與PM-P（高純度丙二醇單甲醚；PGME），主要使用於光阻稀釋，在全球市場維持高占有率。隨著光阻技術世代更新，KH Neochem正尋找可成為「第三支柱」的新產品。
其中，酮類溶劑MAK-S（2-庚酮）聚焦於PG系溶劑中溶解性有限的聚羥基苯乙烯(PHS)。PHS原為KrF光阻主要樹脂，因具優異耐乾式蝕刻及耐熱性，隨EUV光阻量產應用再次受到重視。KH Neochem將依不同光阻樹脂與組成，提供適配的高純度溶劑，擴大EUV光阻應用市場。此外，AI投資成長帶動先進半導體需求，也使光阻塗佈後的邊緣去除(EBR)、顯影及剝離製程更加複雜。KH Neochem因此擴充醋酸丁酯及有機酸等產品，並針對負型CAR顯影等應用推動高純度產品。