電漿束配向(Plasma Beam Alignment)的最原始概念來自於前蘇聯時期的太空近程(Close Drift)推進技術，在美蘇兩國冷戰時期，蘇聯積極發展衛星科技，在衛星動力控制的嚴苛要求下，開發出陽極層推進器(Anode Layer Thruster; ALT)概念。電漿束配向則是近兩年提出的新構想，試圖以此非接觸式(Non-contact)配向方式取代現有刷磨式(Rubbing)配向，直接瞄準未來七代線，作為大尺寸液晶配向的主流技術。 Download檔案下載 加入會員 分享 轉寄 聯絡我們 延伸閱讀 從2010 FINETECH JAPAN、2010 LIGHTING JAPAN、2010 FilmTech JAPAN... 光配向技術及其應用 光配向技術 電漿束液晶配向技術 視訊用新型液晶配向技術 熱門閱讀 「10分鐘內」超急速充電技術進展有成，全固態電池最受青睞 AI在化學反應優化的應用 AI在化工製程節能應用 AI於MBR系統中之品質控制與能源優化應用：以膜絲瑕疵檢測與廢水曝氣... 國際固態電路大會 ISSCC 2025：半導體發展趨勢與記憶體運算技術探討(... 相關廠商 台灣石原產業股份有限公司 金屬3D列印服務平台 高柏科技股份有限公司 喬越實業股份有限公司 山衛科技股份有限公司 台灣大金先端化學股份有限公司 台灣永光化學股份有限公司 大東樹脂化學股份有限公司 志宸科技有限公司