電子顯微鏡在材料的分析上一直扮演著重要的角色，尤其是掃描式電子顯微鏡的試片製備不像穿透式電子顯微鏡般複雜與繁瑣，因此使用也較為普及。在奈米科技蓬勃發展的階段，追求更高解析度、聚焦區域更小、電流密度更高以及燈絲使用壽命更長的場發射掃描式電子顯微鏡更是不可缺少。近來場發射掃描式電子顯微鏡技術向上研發，已能將影像解析度提升到1 個奈米，而且不同分析功能的偵檢附件也不斷的被研發出來，期盼能應用於更多不同領域的材料分析技術上。 Download檔案下載 加入會員 分享 轉寄 聯絡我們 延伸閱讀 奈米檢測能力之提升－先進檢測技術之建構 FE-SEM/CL/EBSD 分析技術簡介 場發射穿透式電子顯微鏡簡介 奈米科技區域服務網絡──檢測技術建置 感應耦合電漿質譜儀在材料分析的應用 熱門閱讀 從分子設計到原子級控制，半導體前段製程材料的挑戰與機會 由VLSI 2025 窺看半導體與AI運算技術的結合(上) 從2025日本智慧能源週看氫能技術的最新進展 ALD與ALE技術整合：次世代薄膜製程的挑戰 由VLSI 2025 窺看半導體與AI運算技術的結合(下) 相關廠商 台灣石原產業股份有限公司 金屬3D列印服務平台 山衛科技股份有限公司 高柏科技股份有限公司 喬越實業股份有限公司 正越企業有限公司 照敏企業股份有限公司 台灣永光化學股份有限公司 桂鼎科技股份有限公司 台灣大金先端化學股份有限公司 大東樹脂化學股份有限公司 志宸科技有限公司