薄膜量測標準

 

刊登日期:2010/1/1
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工研院量測技術發展中心負責執行國家度量衡標準實驗室任務,肩負我國最高計量標準研究實驗、建立與維持之責任,深切體會新科技由實驗室走向市場時所遭遇的困難與挑戰。由於計量是提供數字化科學證據的唯一途徑,國家度量衡標準實驗室透過發展奈米技術計量標準,建置國際一流水準的奈米量測標準,提供精確可靠的奈米尺度量測,俾便對於奈米技術商品化過程中的每一個階段,能真實地理解與掌握製造過程,並確保產品品質。本文係量測中心執行國家度量衡標準實驗室計畫之奈米技術計量標準計畫中,對薄膜厚度標準片校正之系統評估,此一校正系統提供二氧化矽薄膜厚度範圍為10~200nm之追溯校正服務。系統是以波長掃描範圍為250~850nm之分光式橢圓偏光儀,量測熱成長二氧化矽薄膜的物理與光學特性。透過最小平方法來擬合實驗中所量得的橢圓偏光函數,可以求得此熱成長二氧化矽層的薄膜厚度與折射率。系統的評估方法參考國際標準組織(ISO)發行的「量測不確定度表示法的指引」分析各誤差源,系統之擴充不確定度為0.2nm,信賴水準(擴充係數1.98)為95%。


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