本研討會主題為從奈米到微米：粒徑與形態分析的前沿技術與未來趨勢。聚焦於粒徑與形態分析技術的最新進展，涵蓋光散射、3D顯微、晶片電位與流體粒子影像分析等領域。透過業界專家的專題演講，探討從奈米尺度到微米尺度之量測應用，並解析未來技術發展趨勢，協助與會者掌握在材料、生醫與半導體等領域中的關鍵分析能力。
■ 研討場次
【台南場】
時間：6/17 (二) 13:30~16：30
地點：台南成功大學 太子會館 (701台南市東區大學路2號)
【新竹場】
時間：6/18 (三) 13:30~16：30
地點：新竹工研院51館4樓 國際會議中心 (新竹縣竹東鎮中興路四段195號)
■ 議程：
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時間
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主題
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主題簡介
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講者
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13:30~13:35
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主持人開場
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13:35~14:45
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從粒徑測量到固液界面電位分析：光散射技術的先端應用
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介紹先進光散射技術，涵蓋奈米粒徑測量至固液界面電位分析，應用於材料、生醫與化學領域。
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張順陞 副理 /
辛耘企業股份有限公司
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14:45~14:55
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中場休息
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14:55~15:35
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無須對焦的3D顯微鏡：光波動場三維奈米形貌觀察新突破
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介紹光波動場原理，進行無需對焦的三維形貌量測，適用於微奈米級樣品結構、缺陷、添加物等觀察。
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賴彥成 副理 /
大塚科技股份有限公司 營業部
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15:35~15:45
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中場休息
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15:45~16:30
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流體材料的把控關鍵：微奈米粒子的AI影像觀測技術
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介紹結合光學影像與 AI 分析技術，精準量測液態樣品中的粒徑，突破傳統方法在透明異物、團聚體與氣泡偵測上的限制。
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顏嘉德 博士 /
邑流微測股份有限公司 前瞻技術部
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