日本宮崎大學與TOSOH Finechem公司共同合作，成功研發出氧化鋅的離心力法製膜技術。由於氧化鋅可替代透明電極用的ITO作為FPD或薄膜太陽電池的關鍵材料，因而備受期待，但就目前的技術來說，不論是真空蒸鍍法的濺鍍（sputtering）或化學蒸鍍法的CVD等方式都需大型設備，若能以離心力製法製作出薄膜，就可大大減少工程及成本。
因此，研發團隊利用TOSOH Finechem公司開發出的特殊鋅材料，以離心力法將液體倒至基板上，使其產生化學反應而成為氧化鋅薄膜。若在材料中加入氧源，離心力製法也可能在低溫環境下進行，藉由掌控製膜條件，結晶性的氧化鋅薄膜也可在200℃以下的低溫中製成。這項研發未來可望用於塑膠基板，進而應用在太陽電池元件上。