製備高性能高分子薄膜為台灣產學界未來亟需發展的關鍵技術之一，不論是單層、多層薄膜或被覆基材等材料，都可應用在傳統民生工業至光電能源等高科技產業。在製膜技術中，延伸製程影響高分子薄膜材料之最終物性為最重要的考量之一。然而，當前面臨的生產技術問題之一為高分子薄膜之物性無法有效地預先調控以配合產品所需之條件，如熱膨脹係數、雙折射率、薄膜尺度等。因此，本文針對專利與學術文獻綜合討論如何以實驗或理論預測工具來解決此問題，期望對產業界有所裨益。 Download檔案下載 加入會員 分享 轉寄 聯絡我們 延伸閱讀 2014台北國際光電週特別報導二 熱門專利組合—先進鍍膜專利組合 日本明電舍以獨家OER技術，實現在薄膜上的常溫成膜 LED照明用關鍵零組件–耐電壓型積層陶瓷電容器 新穎脫鹽技術發展趨勢與應用潛力 熱門閱讀 半導體用抗反射層材料 半導體用光酸材料技術 「10分鐘內」超急速充電技術進展有成，全固態電池最受青睞 半導體用高解析光阻劑 淺談3D列印陶瓷 相關廠商 台灣石原產業股份有限公司 金屬3D列印服務平台 高柏科技股份有限公司 正越企業有限公司 喬越實業股份有限公司 廣融貿易有限公司 山衛科技股份有限公司 台灣大金先端化學股份有限公司 大東樹脂化學股份有限公司 志宸科技有限公司 照敏企業股份有限公司 台灣永光化學股份有限公司 工研院材化所 材料世界網 桂鼎科技股份有限公司