製備高性能高分子薄膜為台灣產學界未來亟需發展的關鍵技術之一，不論是單層、多層薄膜或被覆基材等材料，都可應用在傳統民生工業至光電能源等高科技產業。在製膜技術中，延伸製程影響高分子薄膜材料之最終物性為最重要的考量之一。然而，當前面臨的生產技術問題之一為高分子薄膜之物性無法有效地預先調控以配合產品所需之條件，如熱膨脹係數、雙折射率、薄膜尺度等。因此，本文針對專利與學術文獻綜合討論如何以實驗或理論預測工具來解決此問題，期望對產業界有所裨益。 Download檔案下載 加入會員 分享 轉寄 聯絡我們 延伸閱讀 2014台北國際光電週特別報導二 第32屆國際光化學會議之光觸媒與光化學技術發展及永續應用趨勢解析 《工業材料雜誌》1月刊 四十周年特刊，集結14項領域技術共同展現材料... 熱門專利組合—先進鍍膜專利組合 日本明電舍以獨家OER技術，實現在薄膜上的常溫成膜 熱門閱讀 從2026日本奈米展看材料發展 功率半導體元件與散熱技術 民生用廢塑膠容器智慧辨識與分選技術之發展與實場應用 高純鎵金屬循環回收技術—從二次資源提取純化到產業應用 寬能隙功率半導體封裝之結構設計與互連技術挑戰 相關廠商 新加坡商英彼克有限公司台灣分公司 台灣石原產業股份有限公司 金屬3D列印服務平台 高柏科技股份有限公司 正越企業有限公司 喬越實業股份有限公司 廣融貿易有限公司 山衛科技股份有限公司 台灣大金先端化學股份有限公司 大東樹脂化學股份有限公司 志宸科技有限公司 照敏企業股份有限公司 台灣永光化學股份有限公司 工研院材化所 材料世界網 桂鼎科技股份有限公司