製備高性能高分子薄膜為台灣產學界未來亟需發展的關鍵技術之一，不論是單層、多層薄膜或被覆基材等材料，都可應用在傳統民生工業至光電能源等高科技產業。在製膜技術中，延伸製程影響高分子薄膜材料之最終物性為最重要的考量之一。然而，當前面臨的生產技術問題之一為高分子薄膜之物性無法有效地預先調控以配合產品所需之條件，如熱膨脹係數、雙折射率、薄膜尺度等。因此，本文針對專利與學術文獻綜合討論如何以實驗或理論預測工具來解決此問題，期望對產業界有所裨益。 Download檔案下載 加入會員 分享 轉寄 聯絡我們 延伸閱讀 精準設計、預測和塗佈成型技術 完美結合實現智慧製造 多層同時塗佈技術與應用 塗膜乾燥製程精準操控技術 智慧化塗佈製程設備發展 鈣鈦礦太陽能電池大面積塗佈技術與發展趨勢 熱門閱讀 國際固態電路大會 ISSCC 2025：半導體發展趨勢與記憶體運算技術探討(... IEDM 2024前瞻：鐵電記憶體技術發展與半導體趨勢解析 由2025 NEPCON Japan看低碳樹脂材料與印刷電路板製程技術與應用 日本綜合化學品製造商聚焦EUV，展望半導體材料領域 原子層沉積之應用與未來發展趨勢 相關廠商 台灣石原產業股份有限公司 金屬3D列印服務平台 高柏科技股份有限公司 正越企業有限公司 喬越實業股份有限公司 廣融貿易有限公司 山衛科技股份有限公司 台灣大金先端化學股份有限公司 大東樹脂化學股份有限公司 志宸科技有限公司 照敏企業股份有限公司 台灣永光化學股份有限公司 工研院材化所 材料世界網 桂鼎科技股份有限公司