CIGS薄膜太陽電池元件的效率已達20%，但目前高效率的元件仍以真空製程為主，如共蒸鍍及濺鍍硒化。共蒸鍍有放大均勻性及材料使用率等考量，而濺鍍硒化雖然大面積均勻性佳且有不錯的光電轉換率，但設備投資成本高。因此選擇高效率、大面積、低耗能、低成本與可撓性的薄膜太陽電池為國內外共同的發展趨勢。 Download檔案下載 加入會員 分享 轉寄 聯絡我們 延伸閱讀 陽光將穿透陰霾照耀大地–太陽光電高效電池與系統技術推進 廢太陽能板變資源，結合電廠排氣製造甲酸 從困難廢料到碳資產：太陽光電模組塑膠材料的循環經濟創新路徑 Konica Minolta開發出延長鈣鈦礦太陽電池壽命2倍之保護膜 日本經產省要求4大都市圈制定鈣鈦礦太陽電池GW級導入目標 熱門閱讀 國際固態電路大會 ISSCC 2025：半導體發展趨勢與記憶體運算技術探討(... 由2025 NEPCON Japan看低碳樹脂材料與印刷電路板製程技術與應用 日本綜合化學品製造商聚焦EUV，展望半導體材料領域 原子層沉積之應用與未來發展趨勢 2025 Nepcon Japan R&D and Manufacturing熱管理材料回顧 相關廠商 台灣石原產業股份有限公司 Hach台灣辦事處 金屬3D列印服務平台 正越企業有限公司 高柏科技股份有限公司 喬越實業股份有限公司 廣融貿易有限公司 山衛科技股份有限公司 台灣永光化學股份有限公司 台灣大金先端化學股份有限公司 照敏企業股份有限公司 桂鼎科技股份有限公司 工研院材化所 材料世界網 大東樹脂化學股份有限公司 志宸科技有限公司