使用紫外光固化奈米壓印技術,製作光子晶體圖案於氮化鎵磊晶基板上,使形成光子晶體發光二極體。藉由理論分析壓印的壓力與流體分佈,配合實驗調整壓印與離模時的相關參數,可壓印出200nm的光子晶體圖案,同時最小線寬可壓印70nm的奈米圖案,並將壓印光阻圖案藉由反應性離子蝕刻轉移到氮化鎵磊晶基板上。 Download檔案下載 加入會員 分享 轉寄 聯絡我們 延伸閱讀 熱門閱讀 從2024 ICEP看國際半導體先進封裝技術 交聯乙烯-醋酸乙烯酯(EVA)材料的回收再利用策略:挑戰與前景 先進封裝與3D IC的未來:深入解析混合接合技術 聚碳酸酯(PC)化學解聚與低碳環氧樹脂開發技術 從CHINAPLAS 2024 看橡塑材料發展現況(上) 相關廠商 金屬3D列印服務平台 大東樹脂化學股份有限公司 台灣大金先端化學股份有限公司