使用紫外光固化奈米壓印技術,製作光子晶體圖案於氮化鎵磊晶基板上,使形成光子晶體發光二極體。藉由理論分析壓印的壓力與流體分佈,配合實驗調整壓印與離模時的相關參數,可壓印出200nm的光子晶體圖案,同時最小線寬可壓印70nm的奈米圖案,並將壓印光阻圖案藉由反應性離子蝕刻轉移到氮化鎵磊晶基板上。 Download檔案下載 加入會員 分享 轉寄 聯絡我們 延伸閱讀 熱門閱讀 AI在化學反應優化的應用 AI在化工製程節能應用 AI於MBR系統中之品質控制與能源優化應用:以膜絲瑕疵檢測與廢水曝氣... 國際固態電路大會 ISSCC 2025:半導體發展趨勢與記憶體運算技術探討(... 《工業材料》雜誌2025年6月號推出「化工製程的節能與智慧化應用技術... 相關廠商 台灣石原產業股份有限公司 金屬3D列印服務平台 大東樹脂化學股份有限公司 台灣大金先端化學股份有限公司