使用紫外光固化奈米壓印技術,製作光子晶體圖案於氮化鎵磊晶基板上,使形成光子晶體發光二極體。藉由理論分析壓印的壓力與流體分佈,配合實驗調整壓印與離模時的相關參數,可壓印出200nm的光子晶體圖案,同時最小線寬可壓印70nm的奈米圖案,並將壓印光阻圖案藉由反應性離子蝕刻轉移到氮化鎵磊晶基板上。 Download檔案下載 加入會員 分享 轉寄 聯絡我們 延伸閱讀 熱門閱讀 循環經濟下的綠色氫能:有機廢棄物產氫技術、材料應用與永續評估 氨裂解產氫技術發展現況與趨勢 氨作為氫載體的零排放能源應用研究進展 高科技產業純水製程廢液資源化策略與技術開發 廢寶特瓶高值化突破,One-pot製程直接合成高性能MOF材料 相關廠商 新加坡商英彼克有限公司台灣分公司 台灣石原產業股份有限公司 金屬3D列印服務平台 大東樹脂化學股份有限公司 台灣大金先端化學股份有限公司