日本王子控股(Oji Holdings)發表，其以木質生質原料開發的先進半導體用光阻（木質生質光阻），透過次世代High-NA EUV（高數值孔徑0.55）微影技術進行評估，確認已成功形成對應A14製程節點的微細圖案。High-NA EUV相較於既有NA 0.33 EUV可實現更高的解析度，並能形成更精細的圖案，是支持AI、資料中心及高效能運算(HPC)等需求、推動半導體持續微縮的重要技術。A14世代預計於2028年後應用於先進邏輯半導體，要求約10 nm等級的微細圖案形成能力。
王子控股於2024年開發出可應用於EUV微影的木質生質光阻，並推動事業化，自2025年起與全球半導體研究創新中心imec展開共同研究。此項材料採用木質生質來源原料，不使用受到全球管制趨勢關注的全氟/多氟烷基物質(PFAS)，且兼具良好的儲存穩定性、製程穩定性以及優異的微細圖案形成性能。在此次共同研究中，成功地確認形成線寬10 nm的直線圖案以及直徑16 nm的孔洞圖案。此項研究成果顯示木質生質光阻具備導入先進半導體製程的潛力，今後將可望成為A14等次世代半導體的環境友善型材料選項。