因應時代潮流，KH Neochem高純度溶劑的主軸從液晶顯示器(LCD)用途轉向邏輯半導體與記憶體製程用光阻。當前兩大主力分別為光阻稀釋溶劑的主成分PMA-P（高純度丙二醇甲醚乙酸酯；PGMEA），以及PM-P（高純度丙二醇甲醚；PGME）。雖然這兩種產品全球均握有高市占率，且仍將是銷量上的主力，但隨著光阻的世代交替，KH Neochem也正在尋找有望成為第三大支柱的產品。
其中一個方向是酮類：MAK-S （2-庚酮），將丙二醇類溶劑較難溶解的聚羥基苯乙烯(PHS)納入溶解對象的考量。PHS以往一直是KrF光阻的主要材料，如今隨著EUV的量產化而獲得新的用途。在ArF光阻領域中，PHS的地位曾因為吸光性等問題而遭受丙烯酸類材料取代，如今再度在EUV光阻領域裡獲得採用，在乾式蝕刻耐性與耐熱性等方面受到肯定。KH Neochem將EUV在關鍵層以外領域的擴大運用納入未來展望，利用以MAK-S為代表的各種高純度溶劑，規劃針對光阻的樹脂成分與整體組成推出適用的產品，進一步擴大商機。
隨著AI投資日益活絡，不僅光阻的量體有所擴張，塗佈CAR時的洗邊(EBR)與顯影、剝離製程也日益複雜，因此KH Neochem也會針對包含醋酸丁酯與各種有機酸的產品進行整體性布局。例如醋酸丁酯等產品在負型CAR顯影製程中的溶解性受到肯定，目前已有推出高純度等級產品，而客戶端有可能已經進行試用。