機能性アクリレートモノマー開発
■ 技術概要
半導体およびオプトエレクトロニクス産業向けに適用可能な各種機能性アクリレートモノマーを開発している。
DUV リソグラフィ向け検証プラットフォーム
■ 技術概要
フォトレジスト用モノマー、フォトレジスト用ポリマー、光酸発生剤（PAG）、界面活性剤を含むフォトレジスト組成および配合技術について、DUV リソグラフィプラットフォームを用いた検証が可能である。
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Material and Chemical Research Laboratories
Dept. of Front-End Semiconductor Materials and Applications(L700)
Yu-Chieh Pao
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