■ 技術特徴
▶ クリーンルーム環境：薄膜製造向け Class 100 クリーンルーム対応
▶ 高精度塗工：乾燥膜厚 5 μm、膜厚均一性 ± 3％以下を実現
▶ インライン監視：ETA膜厚計および AOI反射／透過欠陥検査システムを搭載
■ 技術仕様
■ 応用分野
AI によるリアルタイムフィードバックおよびビッグデータ解析を活用し、AI アルゴリズムと組み合わせることで、欠陥マッピング、膜厚分布解析、残留溶媒評価を実現する。これにより、開発期間を30％短縮し、材料使用量を30％削減可能である。
■ AI 応用：R2Rコーティング量産システム
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Material and Chemical Research Laboratories
Dept. of Opto-electronic Materials and Films(L400)
Ming-Hsueh Chiang
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