日本宮崎大學的研發團隊最近與Tosoh Finechem公司合作，利用塗佈法研發出製造低阻抗氧化鋅（ZnO）薄膜的新技術。將新研發的鋅材料朝對象物進行吹附，就可在200℃以下的低溫、大氣壓環境下，成功形成具導電性的薄膜。
氧化鋅薄膜雖可望擴大應用在平面顯示器（FPD），以及薄膜太陽電池關鍵材料的透明電極上，但現狀多採用濺鍍或化學氣相沈積法（CVD）來製造，必須準備大型機器。今後若可利用塗佈製程來進行，則可望大幅減少製程數，並有助於降低製作成本。
此外，低溫製程亦開啟了在塑膠基板上的應用之路，可望促進在電子紙、觸控面板等方面的實用化。