■ 半導体工場における廃酸の低炭素循環利用を実現
本技術は放射線照射により過酸化水素を活性化し、O–O 結合の開裂を促進することでヒドロキシルラジカルを生成する。生成したヒドロキシルラジカルはさらに過酸化水素と反応し、酸素ガスへと分解される。
本システムは操作が容易であり、腐食性ガスを発生させず、不純物残渣も生じないという特長を有する。処理コストは廃硫酸1 kg 当たり約1.0 台湾ドルであり、半導体工場や廃熱処理設備を有しない施設への適用に適している。
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