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電子顕微鏡技術開発および応用

■ 技術概要
当分析チームは、金属材料、電子・光電材料、バイオメディカル材料、石油化学材料、ソフトマター、複合機能デバイス、および各種ナノ材料製品など、幅広い分野において豊富な電子顕微鏡試料作製技術と分析経験を有している。高品質かつ迅速な電子顕微鏡分析サービスを提供し、企業の研究開発および製品評価を支援する。
 
電子顕微鏡技術開発および応用
 
■ SEM 解析技術は、半導体(IC)、材料、光電子産業において広く利用されている
  ▶ 高品質・大面積試料作製技術
   • 応力損傷のない実際の観察面を形成
   • 硬度差の大きい複合材料断面の作製
   • 大面積(cm 級)イオンビームによる応力除去および微細エッチング技術
  ▶ ナノスケールSDD-EDS分析
   • 多層膜構造の元素組成解析
   • ナノ複合材料中の微量添加元素の分布解析
  ▶ EBSD解析技術
   • 金属材料および絶縁材料に対応
   • EBSD回折パターンの系統的解析
   • 多結晶材料の結晶方位および優先配向解析
   • 粒界特性および結晶粒径分布解析
   • 微小領域における多相組織同定
   • KAM解析による局所ひずみ評価
   • 巨大結晶粒(mmスケール)の広域方位・粒径解析
   • 空間分解能:最大 30 nm
  ▶ 低損傷・高コントラスト SEM解析
   • 低損傷かつ高コントラストの SEM 観察手法を開発し、産業界・学術界における先端高分子材料の設計・評価を支援する。
  ▶ カソードルミネッセンス(CL)解析
   • 発光デバイスの局所スペクトル測定
   • 半導体材料・デバイスの局所バンドギャップ解析
   • レーザー改質表面の CL 解析
   • LED、OLED、量子ドット(QD)、蛍光体・燐光材料の微細構造および光学特性評価
   • 光電子デバイス産業で広く活用
  ▶  液中 SEM観察・解析技術
   • 液体セルを用いて SEM 真空環境内に擬似大気環境を形成することで、試料本来の形態を維持乾燥による変形を抑制真の微細構造
      観察を実現し、先端材料研究に新たな解析手段を提供する。
 
 液中 SEM観察・解析技術
 
■ 染色技術およびクライオ電子顕微鏡(Cryo-EM)解析
  ▶ 先進低温試料作製・搬送技術
   • ミセル / リポソーム / タンパク質 / 各種ドラッグデリバリーキャリアなどの解析に適用可能。また、低温/ 低真空/低電子線損傷に
      対応した専用ホルダーを備え、生体試料や高分子材料の観察に最適である。
  ▶ バイオメディカル材料向けTAF認証サービス
   • 台湾初かつ唯一のバイオテクノロジー分野における TAF認証サービスを提供し、液体窒素冷却を用いたクライオ電子顕微鏡
   (Cryo-EM)測定および画像解析に対応するほか、微細構造および寸法認証サービスを提供する。微細構造サイズ測定、不純物組成
     分析および第三者認証機関による試験報告書を発行する。
  ▶ 薬物搭載ナノ粒子の Cryo-EM 解析
   • Cryo-EMおよび染色技術を活用することで、脂質ナノ粒子(LNP)の高鮮明画像取得、mRNA の内包状態評価、ナノ粒子内部構造解
     析が可能となり、次世代核酸医薬・DDS 研究開発を支援する。
 
薬物搭載ナノ粒子の Cryo-EM 解析
 
  ▶ 生体分子電子顕微鏡イメージング
   • 以下の解析に適用可能:バイオ医薬品解析、植物細胞・動物細胞観察、細菌のインテリジェント選別、バイオ医薬粒子の粒径測定。
  ▶ バイオメディカル材料の AI 選別・粒径解析
 
バイオメディカル材料の AI 選別・粒径解析
 
■ 電子・光電子・石油化学産業向け TEM 総合解析サービス
  ▶ TEM 結晶構造解析
   • TEM による結晶構造解析
   • 多角度結晶回折イメージング技術を開発
   • 試料傾斜角度範囲:± 30°
   • ナノ材料、高分子複合材料、電子部品、エネルギー材料など幅広い分野に適用し、結晶構造解析を支援
  ▶ 先端半導体・車載電子・メモリデバイス解析
   • 先端電子材料およびデバイスの研究開発支援
   • プロセス条件最適化および製品故障解析を支援
 
■ 球面収差補正透過電子顕微鏡(Cs-Corrected TEM):二次元材料、先端半導体デバイス(GAA)、高分子複合材料、
   低誘電率(Low-k)エッチング材料などに適用
  ▶ 原子レベルの無歪み高分解能イメージング
  ▶ 軽元素に対応した無歪み観察システム
  ▶ 非破壊電子エネルギー損失分光法(EELS)解析:元素情報に加え、化学結合状態を解析する。数秒~数分でマッピング結果を取得
     でき、高い空間分解能および低原子番号元素の高コントラスト識別が可能。
  ▶ PED 応力解析
 
球面収差補正透過電子顕微鏡(Cs-Corrected TEM):二次元材料、先端半導体デバイス(GAA)、高分子複合材料、低誘電率(Low-k)エッチング材料などに適用
 
■ 高スループット・高エネルギー分解能蛍光 X 線分析(XRF)
  ▶ 複雑多成分材料の高速・高精度分析
   • 元素分析範囲:4Be ~ 92U
   • 固体、液体、粉末、薄膜など多様な試料形態に対応
   • 非破壊分析定性・半定量・定量分析
   • プロセス中の微量不純物・汚染物質の成分および濃度確認
   • 有害物質(重金属など)の成分・濃度分析
  ▶ ウエハー薄膜の膜厚・組成分析
   • 元素分析範囲:4Be ~ 92U
   • 膜厚測定範囲:1 nm ~ 0.1 mm
  ▶ 微小領域元素マッピング解析
   • 元素分布マップ作成
   • CCD による試料観察
   • 空間分解能:500 μm 未満
 
高スループット・高エネルギー分解能蛍光 X 線分析(XRF)
 
■ リチウム電池解析サービス
  ▶ 環境制御型低温観察による固体電解質界面(SEI)層のイメージングおよび相解析
  ▶ 環境制御型低温イオンビーム断面加工
  ▶ リチウムデンドライト表面形態観察
  ▶ リチウムデンドライト断面構造解析
  ▶ リチウムを含む軽元素の分布および組成解析
  ▶ ハーフセルおよびフルセルの微細構造解析
  ▶ 劣化・故障メカニズム解析
 
リチウム電池解析サービス
 
 
 
 
 
■ Contact Us 
Material and Chemical Research Laboratories
Dept. of Electron Microscopy Development and Application(M300)
 
Yin-Cheng Yen
Tel:+886-3-5915469
E-mail:yyc@itri.org.tw
 
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